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LPCVD

產品與技術

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簡介

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      憑借來自世界各地技術專家的努力,理想能源在短短一年的時 間內就研發出在玻璃基板上沉積透明導電氧化物膜(Transparent Conductive Oxide, TCO)的低壓化學氣相沉積設備(LPCVD)。該設備已有八臺用在硅基薄膜太陽電池生產線 上沉積電池的前后導電層。實際的生產數據表明:該設備開機率達90%以上,產品良率達 98%。該設備代表了此類技術的世界先進水平,在2011年獲上海浦東科技進步獎,2012年 獲上海科學技術獎。

運行中的LPCVD設備

LPCVD技術

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       TCO膜是指用物理或化學的方法在玻璃或其它基板表面均勻沉積一層透明的導電氧化物膜 (Transparent Conductive Oxide)。應用在太陽能光伏領域的TCO玻璃是指鍍了TCO膜的 平板玻璃,TCO玻璃主要用作薄膜太陽能電池的前基板(電極),它的性能對于薄膜太陽 能電池的最終轉換率有著相當大的影響。TCO膜一般具有透光性,導電性及減反射等功能 。理想能源的LPCVD設備是采用低壓化學氣相沉積(LPCVD)的工藝在玻璃上沉積摻硼的氧 化鋅薄膜(ZnO:B)。


      用理想能源的設備沉積的TCO膜有以下優點:

  • 生產成本低:每平方米生產成本低于12元人民幣。
  • 透光性好:所鍍的摻硼的氧化鋅膜的透光性可高于85%。
  • 導電性好:方塊電阻可在7-20歐姆之間調整。
  • 霧度高:可在25%-50%之間調整。

世界領先的LPCVD設備

       秉承世界先進的設計理念,理想能源大膽地將應用在半導體精密設備的技術及工藝創造性 地引入到LPCVD設備的研發與設計中來,使該設備在技術上處于世界領先水平。該設備目 前就擁有國家22項發明及實用新型專利。


      該設備有如下優點:

  • 設備生產成本低:較低的設備及備品備件價 格、創新二級Hottrap設計及高達98%的良品率使每平方米BZO膜的鍍膜綜合成本(COO)低 至       12元人民幣;
  • 設備產能高:創新的加熱源及加熱器設計加 上穩定的綜合表現(開機率>90%),使單機設備的產能達到世界領先水平;
  • 安全性能高:采用小型蒸發氣罐設計,設備中所存的易燃氣體 少,大大提高生產現場的安全性;
  • 可隨客戶要求靈活定制:軟件控制系統為自行開發,可根據客 戶的要求高度訂制,對于客戶在使用過程中的改進要求也可以迅速響應。

應用

       硅基薄膜太陽能電池的前后電極:

       LPCVD技術及設備在硅基薄膜太陽能電池生產領域的應用已經十分成熟,客戶的實踐證明:用LPCVD設備來生產電池的前后電極是提高電池效率和降低電池生產成本的有效途徑。

       CIGS薄膜太陽能電池的前電極:

       已通過大量的試驗證明,在用共蒸鍍法及硒化法工藝生產CIGS薄膜太陽能電池的產線上,用LPCVD設備沉積的BZO完全可以取代用PVD制備的AZO前電極。這樣不僅可以極大節省成本,還可以提高轉換效率。

       LED的透明導電層:

       目前LED透明導電層的制備普遍采用的工藝方法是采用電子束蒸鍍沉積ITO,由于銦(ITO的主要原料)的成本不斷上漲,用LPCVD設備沉積的BZO膜取代用PVD濺射的ITO膜可以大量降低LED成本。經過大量實驗證明,用BZO取代ITO在工藝上完全可行。

售后服務及配套

       經驗豐富的國內工程師團隊使理想能源可以在短短30天內完成設備組裝、設備調試及工藝調試等流程,極大地縮短了用戶的投產前準備時間。對于現有客戶,理想能源除提供低價優質的備品備件、低成本高效率的零部件清洗解決方案外,還提供完善、快速的7 x 24小時售后服務,使客戶能有效降低運營成本。

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